Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/1417
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题名: Self-Aligned Deposition process for ultrathin electroless barriers and copper films on low-k dielectric films
作者: G. S. Chen;S. T. Chen;R. F. Louh;T. J. Yang;C. K. Lin
日期: 2004
上传时间: 2009-02-03T07:03:04Z
關聯: Electrochem. Solid-State Lett., 7, C17－C19. (SCI)
显示于类别:[電子工程系] 期刊論文

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