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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/1544
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| 題名: | AZO透明導電膜 |
| 作者: | 詹益財;林琪耀;蔡益華;李彥廷 |
| 貢獻者: | 修平技術學院電子工程系 |
| 關鍵詞: | AZO透明導電膜 |
| 日期: | 2008/12/24
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| 上傳時間: | 2009-03-16T06:48:40Z
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| 出版者: | 修平技術學院 |
| 摘要: | 隨著光電產業的發展，不斷有新材料被發展出來，透明導電膜即是近年來在LCD產業下的這門材料，而所謂的透明導電膜即是一種吸收紫外光、可見光穿透與反射紅外線的材料，傳統上多使用ITO，但因為其成本高昂，所以一直以來有新材料想取代它，AZO便是一例，在適當條件下可製作出與ITO相媲美之特性且價格低廉，極具競爭優勢。
本實驗利用反應性射頻磁控濺鍍系統(RF reactive magnetron sputtering)的方法來沉積AZO(ZnO:Al)薄膜於康寧玻璃1737上，濺鍍條件中採取改變工作壓力、濺鍍時間，固定Ar、O 分壓、靶材中鋁的含量(4%)、RF功率(150W)，以探討鋁含量、製程參數與熱處理間交互作用，對所沉積的AZO薄膜之結構與性質的影響。經由X-Ray觀察薄膜的微結構、四點探針測量電性、Alpha-step測量其沉積厚度、UV-VIS-NIR光譜儀量測光的穿透率。 |
| 顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
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