Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/3309
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4334/7631
造访人次 : 3184395      在线人数 : 19
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/3309

题名: 銅鋁氧透明導電薄膜
作者: 陳雍明;吳育霖
贡献者: 電子工程系
关键词: 銅鋁氧
日期: 2012-12-26
上传时间: 2013-07-23T06:27:20Z
摘要: 在本次的研究中,主要是使用高真空濺鍍系統(射頻磁控濺鍍系統)製備銅鋁(CuAl)薄膜,討論氧分壓及基板溫度對薄膜光電性質的影響,接著以不同的溫度275℃、300℃ 和325℃ 以及1:1、1:3和3:1的氬氧流量比值做量測分析。量測銅鋁(CuAl)薄膜利用四點探針得到薄膜電阻率及紫外光(UV)光譜儀量測穿透率。本研究發現,在高氧分壓及低溫的情況下有較好的穿透率。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

文件中的档案:

没有与此文件相关的档案.

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 


DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈