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題名: 多鐵性BiFeO3摻雜鎳元素薄膜特性研究
作者: 林泓逸;賴廷祐;陳建宏;任祥瑋
貢獻者: 電子工程系
關鍵詞: 多鐵性薄膜
日期: 2014-12
上傳時間: 2015-08-04T01:14:57Z
摘要: 本研究以溶膠凝膠法製備BiFeO3 多鐵性薄膜，透過旋轉塗佈法將
薄膜沉積在FTO 基板上，並?用快速熱退火(Rapid Thermal Annealing，
RTA)在大氣氛圍下作熱處?。本實驗分為二部分探討，分別為純相BFO
薄膜沉積在FTO 基板上，經?同退火溫?熱處?後的特性比較和摻雜
微?的Ni，探討BiFe1-xNixO3(BFNO)的特性。
本薄膜摻雜?同含?的Ni 分別為x = 0.02、0.04、0.06、0.08、0.10、
0.12。由實驗結果得知純相BFO 薄膜分別沉積在FTO 基板上，退火溫
?為450 oC 時有最佳的晶相，無二次相的產生，並且有最佳的鐵電性。
BFO 薄膜摻雜Ni 能有效抑制Fe3+與Fe2+間的變動，減少氧空缺產生，
表面結構因Ni 的摻雜而變得致密，而產生較佳的鐵電性。最後經實驗
結果證實透過摻雜的方式會讓結構的鐵電薄膜均能有改善純相BFO 的
鐵電性、介電性、?電?、光伏性。
顯示於類別:[電子工程系] 學生專題

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