English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 4334/7631
造訪人次 : 3197135      線上人數 : 470
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 進階搜尋

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/7974

題名: 氧化鋅摻鋁薄膜奈米線之製作
作者: 康育誠;謝景昌;謝秉軒;張凱立
貢獻者: 電子工程系
關鍵詞: 氧化鋅摻鋁薄膜奈米線之製作
日期: 2022-06
上傳時間: 2022-12-05T02:10:43Z
摘要: 本研究是利用溶膠-凝膠法(Sol-gel)將氧化鋅摻雜鋁元素(Zn1-xAlxO,x=0、0.02、0.04、0.06)晶種層薄膜製作在ITO導電基板上,並使用加熱板(300oC)及快速熱退火熱處理(400 oC、450 oC、500 oC、600oC,4種熱處理溫度)比較分析不同熱處理溫度對氧化鋅晶體結構特性之影響,透過XRD量測分析氧化鋅奈米線摻雜摻雜鋁元素之繞射峰強度與其晶相生長之關係,研究結果得知氧化鋅摻雜鋁元素之繞射峰(002)晶相具有最優良的取向成長,且熱處理溫度600oC的晶體結構會有最佳晶體結構。
顯示於類別:[電子工程系] 學生專題

文件中的檔案:

沒有與此文件相關的檔案.

在HUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

 


DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋