Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/1429

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Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository > 工程學院 > 電子工程系 > 期刊論文 > Item 310993100/1429

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題名:	The synergistic effect of N2/H2 gases in the plasma passivation of siloxane-based low-k polymer films’
作者:	S. T. Chen;G. S. Chen;T. J. Yang;T. C. Chang;W. H. Yang
日期:	2003
上傳時間:	2009-02-03T07:03:42Z
關聯:	Electrochem. Solid-State Lett., 6, F4?F7. (SCI)
顯示於類別:	[電子工程系] 期刊論文

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