Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/1543
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题名: 非晶矽薄膜沉積
作者: 蕭健宏;許孝銘;游朝清;翁彰隆
贡献者: 修平技術學院電子工程系
关键词: 非晶矽薄膜沉積
日期: 2008/12/24
上传时间: 2009-03-16T06:48:29Z
出版者: 修平技術學院
摘要: 本研究目的是利用射頻磁控濺鍍機，於不同溫度下，在矽基板及玻璃基板上成長矽。並探討他們在不同溫度製程條件下，在光線中吸收係數的情形。
矽薄膜，利用射頻磁控濺鍍機成長出來的矽薄膜為非結晶相的。我們將用紫外線可見光(UV/VIS)光譜儀量測矽薄膜的吸收率，之後用公式做換算求得吸收係數，求得結果得知溫度越高它的吸收係數的值就越好。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

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