Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/2691

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Title:	利用溶膠-凝膠法製備鐵酸鉍鐵電薄膜摻雜鐠之鐵電特性研究
Authors:	林泓彥羅鳴謙陳冠堯賴信呈
Contributors:	電子工程系
Keywords:	溶膠-凝膠法鐵酸鉍鐵電薄膜漏電流
Date:	2011-12-28
Issue Date:	2012-07-10T02:07:48Z
Abstract:	本研究以溶膠凝膠法製備鐵酸鉍(BiFeO3)鐵電薄膜摻雜鐠(Pr)元素，做為非揮發性鐵電記憶體之應用；以旋轉塗佈機將薄膜沉積於Pt/Ti/SiO2/Si基板上，分別在450 oC溫度下，利用X光繞射儀(XRD)、電子式掃描顯微鏡(SEM)、及阻抗分析儀(HP4284)來探討鐠(Pr)濃度摻雜(x值分別為0、0.02、0.04、0.06、0.08) 對薄膜成長的影響。且藉由鐠(Pr)的濃度改變對晶體結構、晶粒大小、漏電流特性、介電性及鐵電性之影響。根據實驗顯示，以Pr來說，在x=0.08時鐵電特性方面，有最佳的鐵電特性殘留極化值：2Pr=24.56μC/cm2、矯頑電場： 2Ec＝92.2kV/cm 、漏電流在x=0.08 時漏電流密度3.26E-06J(A/cm2)，由此可知Pr摻雜的多寡可有效降低漏電流與殘留極化值的變化。
Appears in Collections:	[Department of Electronic Engineering] Monograph

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