Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/2691
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4348/7649
造访人次 : 4319744      在线人数 : 105
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/2691

题名: 利用溶膠-凝膠法製備鐵酸鉍鐵電薄膜摻雜鐠之鐵電特性研究
作者: 林泓彥
羅鳴謙
陳冠堯
賴信呈
贡献者: 電子工程系
关键词: 溶膠-凝膠法
鐵酸鉍
鐵電薄膜
漏電流
日期: 2011-12-28
上传时间: 2012-07-10T02:07:48Z
摘要: 本研究以溶膠凝膠法製備鐵酸鉍(BiFeO3)鐵電薄膜摻雜鐠(Pr)元素，做為非

揮發性鐵電記憶體之應用；以旋轉塗佈機將薄膜沉積於Pt/Ti/SiO2/Si基板上，分

別在450 oC溫度下，利用X光繞射儀(XRD)、電子式掃描顯微鏡(SEM)、及阻抗

分析儀(HP4284)來探討鐠(Pr)濃度摻雜(x值分別為0、0.02、0.04、0.06、0.08)

對薄膜成長的影響。且藉由鐠(Pr)的濃度改變對晶體結構、晶粒大小、漏電流特

性、介電性及鐵電性之影響。

根據實驗顯示，以Pr來說，在x=0.08時鐵電特性方面，有最佳的鐵電特性

殘留極化值：2Pr=24.56μC/cm2、矯頑電場： 2Ec＝92.2kV/cm 、 漏電流在x=0.08

時漏電流密度3.26E-06J(A/cm2)，由此可知Pr摻雜的多寡可有效降低漏電流與

殘留極化值的變化。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

文件中的档案:

没有与此文件相关的档案.

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©  2006-2025  - 回馈