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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/3309
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| 題名: | 銅鋁氧透明導電薄膜 |
| 作者: | 陳雍明;吳育霖 |
| 貢獻者: | 電子工程系 |
| 關鍵詞: | 銅鋁氧 |
| 日期: | 2012-12-26
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| 上傳時間: | 2013-07-23T06:27:20Z
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| 摘要: | 在本次的研究中，主要是使用高真空濺鍍系統(射頻磁控濺鍍系統)製備銅鋁(CuAl)薄膜，討論氧分壓及基板溫度對薄膜光電性質的影響，接著以不同的溫度275℃、300℃ 和325℃ 以及1:1、1:3和3:1的氬氧流量比值做量測分析。量測銅鋁(CuAl)薄膜利用四點探針得到薄膜電阻率及紫外光(UV)光譜儀量測穿透率。本研究發現，在高氧分壓及低溫的情況下有較好的穿透率。 |
| 顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
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