Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/4568

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Title:	以溶液法直接氧化鈦薄膜之技術開發
Authors:	劉遠諭;洪嘉陽;徐子堯;吳鴻濤
Contributors:	電子工程系
Keywords:	鈦?屬薄膜
Date:	2014-12
Issue Date:	2015-08-04T01:15:01Z
Abstract:	本研究主要以鈦?屬薄膜放入氫氧化鈉水溶液中以恆電位儀?測鈦? 屬薄膜鈍化之極化曲線並觸發鈦薄膜以形成初始鈍化區防止加入強氧化性溶液時，鈦薄膜尚未反應已被腐蝕完，形成鈍化膜後再加入強氧化性溶液使鈦?屬薄膜持續氧化反應，生成二氧化鈦薄膜，將二氧化鈦薄膜放入退火?，分別以?種?同方式進?熱退火處?(1)大氣退火(2)真空退火，退火完以UV-VIS 光譜儀?測其透光?與吸收?，再用XRD 繞射儀檢測其結晶結構，最後以X-光電子能譜儀分析由此種溶液法製備之氧化二氧化鈦薄膜之組成。完成後之二氧化鈦薄膜經?同溫?並浸置在甲基?溶液中，以評估其UV 光分解能?。
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