Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/4568
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4343/7642
造访人次 : 3661948      在线人数 : 491
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/4568

题名: 以溶液法直接氧化鈦薄膜之技術開發
作者: 劉遠諭;洪嘉陽;徐子堯;吳鴻濤
贡献者: 電子工程系
关键词: 鈦?屬薄膜
日期: 2014-12
上传时间: 2015-08-04T01:15:01Z
摘要: 本研究主要以鈦?屬薄膜放入氫氧化鈉水溶液中以恆電位儀?測鈦?
屬薄膜鈍化之極化曲線並觸發鈦薄膜以形成初始鈍化區防止加入強氧化性
溶液時，鈦薄膜尚未反應已被腐蝕完，形成鈍化膜後再加入強氧化性溶液
使鈦?屬薄膜持續氧化反應，生成二氧化鈦薄膜，將二氧化鈦薄膜放入退
火?，分別以?種?同方式進?熱退火處?(1)大氣退火(2)真空退火，退
火完以UV-VIS 光譜儀?測其透光?與吸收?，再用XRD 繞射儀檢測其結晶
結構，最後以X-光電子能譜儀分析由此種溶液法製備之氧化二氧化鈦薄膜
之組成。完成後之二氧化鈦薄膜經?同溫?並浸置在甲基?溶液中，以評
估其UV 光分解能?。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

文件中的档案:

没有与此文件相关的档案.

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈