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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/6268
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| 題名: | 利用低溫濺鍍法製作AZO透明導電膜及其特性與均勻性探討 |
| 作者: | 曾裕翔
高源志
黃韋恆
黃順意 |
| 貢獻者: | 電子工程系 |
| 關鍵詞: | AZO
透明導電薄膜
電性
光學性
濺鍍系統 |
| 日期: | 2017-05-31
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| 上傳時間: | 2018-06-06T06:47:06Z
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| 摘要: | 本專題研究擬在室溫環境下，利用射頻濺鍍系統將 AZO(Al：ZnO) 濺鍍於康寧 1737 玻璃基板上，透過改變擺放位置，固定 Ar 及 H2 氣 體量、靶材中鋁的含量(2%)、濺鍍時間及真空度。經由 X-Ray 觀察 薄膜的微結構、霍爾量測儀測量電性、Alpha-step 測量其沉積厚度、 UV-VIS-NIR 光譜儀量測光的穿透率。
由於固定式射頻濺鍍系統，再濺鍍過程並未像現在薄膜製程採移動式濺鍍，所以鍍膜會呈現不均勻的現象，透過多次實驗及量測採樣，得出該射頻濺鍍系統於A區部分濺渡時，會有最良好的電性及光學性。但由於成品的電性及光學性都不及現代ITO薄膜，未來可以在AZO薄膜上度上銅或銀的薄膜，可以應用在近代的OLED及藍光LED上。 |
| 顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
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