Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/6605

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Title:	退火效應對氧化鋅薄膜的光學與微結構影響
Authors:	鄧張德勳楊閎智李承韋
Contributors:	電子工程系
Keywords:	氧化鋅退火康寧玻璃透明導電氧化物
Date:	2018-06-06
Issue Date:	2018-09-28T03:04:20Z
Abstract:	氧化鋅是目前很有潛力的光電半導體材料之一，具有直接寬能隙(3.34 eV)，有易蝕刻、成本低、資源豐富且不具毒性等優點、在熱穩定性及化學穩定性上也有很好的表現。本專題首先利用溶膠凝膠法(sol-gel)在康寧玻璃基板上旋鍍氧化鋅薄膜，固定旋鍍10層厚度，再分別以400、500 及600℃做RTA快速熱退火處理。接著使用X 光繞射（XRD）分析薄膜晶體結構及電子顯微鏡（SEM）觀察其表面型態，分析不同的退火溫度對薄膜微結構的影響，在光學特性方面使用UV/VIS/NIR 光譜儀檢測薄膜的穿透率以利推算出能隙值。
Appears in Collections:	[Department of Electronic Engineering] Monograph

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