資料載入中.....
|
請使用永久網址來引用或連結此文件:
http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/4568
|
| 題名: | 以溶液法直接氧化鈦薄膜之技術開發 |
| 作者: | 劉遠諭;洪嘉陽;徐子堯;吳鴻濤 |
| 貢獻者: | 電子工程系 |
| 關鍵詞: | 鈦?屬薄膜 |
| 日期: | 2014-12
|
| 上傳時間: | 2015-08-04T01:15:01Z
|
| 摘要: | 本研究主要以鈦?屬薄膜放入氫氧化鈉水溶液中以恆電位儀?測鈦?
屬薄膜鈍化之極化曲線並觸發鈦薄膜以形成初始鈍化區防止加入強氧化性
溶液時，鈦薄膜尚未反應已被腐蝕完，形成鈍化膜後再加入強氧化性溶液
使鈦?屬薄膜持續氧化反應，生成二氧化鈦薄膜，將二氧化鈦薄膜放入退
火?，分別以?種?同方式進?熱退火處?(1)大氣退火(2)真空退火，退
火完以UV-VIS 光譜儀?測其透光?與吸收?，再用XRD 繞射儀檢測其結晶
結構，最後以X-光電子能譜儀分析由此種溶液法製備之氧化二氧化鈦薄膜
之組成。完成後之二氧化鈦薄膜經?同溫?並浸置在甲基?溶液中，以評
估其UV 光分解能?。 |
| 顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
|
在HUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.
|
